上海央米科技提供独特的超声波喷涂技术用于半导体光刻胶涂覆，相比于旋涂、浸涂等传统涂覆工艺，其有着均匀度高、对微结构包裹性好、涂覆面积可控
等优势。已充分证明利用超声喷涂技术进行的3D微结构表面光刻胶涂覆，其制备出的光刻胶涂层在微结构的包裹性和均匀度方面都显著高于传统旋涂工艺。可用
于包括硅片、玻璃、陶瓷、金属等材料的平面和3D结构基材表面涂覆，典型的光刻胶涂层应用包括晶圆、MEMs、镜头、微流控芯片、过滤器等。
