半导体电致发光——LED——YMUS波
电致发光（EL）是一种直接把电能转化为光能的物理现象。从发光物理的角度来讨论，可以分为低场型电致发光和高场型电致发光两种。低场型电致发光一般是指在III-V族化合物的PN结上注入少数载流子，产生复合而引起的发光，这就是通常的发光二极管（LED）。高场型电致发光是一种高场非结型器件的发光，其材料是II-VI族化合物。
高场型电致发光器件结构可分为薄膜型、厚膜薄膜混合型和粉末型三种。交流薄膜型和混合型可用做矩阵显示，是目前EL技术发展的主要方面；交流粉末型则用做LCD等的平面光源。
交流薄膜电致发光显示是全固体化平板显示器件，具有以下一系列固体器件所特有的性能：
1、 响应速度快，达几十微秒。
2、 视角大，达±80°，可多人同时观看。
3、 工作温度范围宽，为-55℃~+125℃，超过一般集成电路所能承受的极端工作温度。
4、 轻薄牢固，有效器件本身没有腔体和封接的结构，可以承受玻璃板能承受的各种震动冲击条件。
目前半导体电致发光主要有三个方向：LED（半导体电致发光）、OLED（半导体材料薄膜电致发光）、QLED（无机半导体量子点薄膜电致发光）
图：半导体电致发光
YMUS超声雾化喷涂技术，制备无机量子点电致发光器件（QLEDs）
与普通的旋涂工艺相比，超声喷涂技术具有三大优势：
一、其节省材料。对于普通的旋涂工艺，在旋涂过程中超过90%的材料被浪费掉了，而喷涂工艺中的材料利用率高达95%以上；
二、喷涂工艺可以实现大面积器件的制备，而旋涂技术则不行。这就使得旋涂技术无法应用到工业化生产中；
三、普通旋涂技术无法对器件进行掩膜从而实现像素点的制备，而喷涂技术完全可以兼容掩膜的工艺。
YMUS喷涂技术是一种低成本、高效的基于溶液法的薄膜制备工艺，已在工业化生产中得到应用。
不同厚度的AFM图：
(a)沉积不同厚度Al2O3层后NiO的表面形貌；
(b) 2nm；(c) 5nm；(d) 8nm。
利用雾化喷涂技术，制备无机量子点电致发光器件（QLEDs），对研究无机QLED器件的发展起到了极好的推动作用，YMUS为制备高质量的量子点电致发光照明机显示器件提高更优质的技术服务。
