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半导体
       兆声清洗是利用兆赫兹级别的超高频超声波能量去进行基材表面亚微米级颗粒的去除以及化学反应。相比于低频超声波空化效应，兆声波空化效应可清楚更小的颗粒并且大幅降低对基材的损伤。我们提供多种类型的兆声系统以用于CMP化学机械抛光、键合前清洗、掩膜清洗、显影、去胶、金属剥离、湿法刻蚀等多种领域。
       兆声波清洗是利用换能器发出兆赫级高能声波, 溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，以强的声压梯度及声流作用 产生的高速流体力学层连续冲击，使吸附的微细颗粒解吸的清洗技术。
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