真空吸附加热平台为提供灵活性——薄膜涂层——YMUS喷涂
YMUS超声波可配备真空吸附加热平台适用于薄基板、晶圆、箔片和薄膜涂层应用，在这些应用中增强了对基板的控制以实现所需的涂层厚度和均匀性。可对吸附加热平台进行编程，将基板加热至150℃-500℃。真空吸附加热平台有铝合金、钛合金、碳化硅等材质可供选择，可满足各种要求。
图：真空吸附加热平台
灵活且高度可配置的喷涂系统适用于半导体、燃料电池和微电子的生产和研发应用。YMUS超声波喷嘴技术，可提供高达95%的原料利用率。
图：YMUS 超声波喷嘴系列
