光刻胶在OLED工艺中的制备——玻璃镀膜——YMUS波
光刻胶的生产既是为了普通的需求，也是为了特定的需求。它们会根据不同光的波长和曝光源进行调整。同时光刻胶具有特定的热流性特征，用特定的方法配臵而成，与特定的表面结合。这些属性是由光刻胶不同化学成分的类型、数量和混合过程来决定的。
聚合物：当在光刻机曝光时，聚合物结构由可溶变成聚合，是光敏性和对能量敏感的特殊聚合物，一般是由一组大而重的分子组成的，这些分子包括碳、氢和氧，塑料类就是一种典型的聚合物。
溶剂：稀释光刻胶，通过喷涂涂覆形成薄膜，光刻胶中最大的成分，使光刻胶处于液态，并且使光刻胶能够通过旋转的方法涂在晶圆表面形成一个薄层。
感光剂：在曝光过程中控制和调节光刻胶的化学反应。
光敏剂：被加到光刻胶中用来限制反应光的波谱范围或者把反应光限制到某一特定的波长。
添加剂：各种添加的化学成分实现工艺效果，不同类型的添加剂和光刻胶混合在一起来达到特定的结果，比如负胶中添加染色剂来吸收和控制光线，正胶中添加抗溶解剂。
YMUS喷涂光刻胶是一种新型的光刻胶涂覆技术，它利用高频超声波振动喷嘴来将液态的光刻胶喷洒在基板上。这种技术在微电子、光电子、生物医学等领域有广泛的应用。
超声波喷涂光刻胶的应用包括以下几个方面:
1.光学器件制备:超声波喷涂光刻胶可以用于制备光学透镜、光纤耦合器、光波导等光学器件。它可以实现高精度、高均匀性的光刻胶涂覆，保证器件的优良光学性能。
2.微电子器件制备:超声波喷涂光刻胶在微电子器件制备中有广泛的应用，如制备晶体管、集成电路、传感器等。它可以实现高分辨率、高精度的光刻胶涂覆，同时可以减少因接触力引起的损伤或污染。
3. 生物芯片制备:超声波喷涂光刻胶可以用于制备生物芯片，如基因芯片、蛋白芯片等。它可以实现微量样品的高通量分析，提高生物芯片的灵敏度和准确性。
超声波喷涂光刻胶相比传统的涂覆方法具有以下优势和优点:
1.高精度:超声波喷涂可以实现非接触式的光刻胶涂覆，避免了传统方法中接触力引起的变形或损坏，保证了高精度的涂覆
2.高均匀性:超声波喷涂光刻胶可以实现均匀的喷涂，避免了传统方法中由于涂胶头的不平整或运动速度不一致引起的均匀性问题。
3.低损伤:超声波喷涂光刻胶采用非接触喷涂方式，避免了传统方法中接触力引起的损伤或污染保证了器件表面的完整性。
