兆 声 清 洗 系 统
点 式 喷 淋
Point type
YMMS
兆声波清洗是利用换能器发出兆赫级高能声波, 溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，以强的声压梯度及声流作用产生的高速流体力学层连续冲击，使吸附的微细颗粒解吸的清洗技术。
兆声清洗特点
兆声波清洗不会产生强烈的空化效应，可以避免在清洗过程中造成对清洗对象表面的损伤与污染物残留。兆声波清洗效率高、时间短，使用清洗剂浓度低，化学试剂的消耗量少，因此对环境的危害水平较低。
设备特性
● 单点喷淋式兆声清洗，相比传统槽式清洗，可解决清洗液二次污染问题；
● 极低的空化效应，不会对器件表面造成损伤；
● 无金属材质接触液体，无导电物质脱落风险；
● 高防腐性，可耐各种酸碱溶液及有机溶剂；
● 超高清洗精度，可去除物体表面0.2微米的污渍颗粒；
● 全面非金属高防腐材质，适应各种酸碱及有机溶剂；
● 石英或蓝宝石匹配层技术，无杂质脱落到器件上的风险；
● 独特的换能器贴合技术，更高的稳定性和耐久性；
● 创新型半导体技术的兆声发生器，全面实现数字化高频大功率驱动；
应用领域
● CMP化学机械抛光 ● 键合前清洗 ● 掩膜清洗
● 显影 ● 去胶 ● Lift-off金属剥离
● 湿法刻蚀 ● 镜头清洗 ● 显示屏等微电子行业精密清洗
兆 声 清 洗 系 统
点 式 喷 淋
Point type
YMMS
兆声波清洗是利用换能器发出兆赫级高能声波, 溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，以强的声压梯度及声流作用产生的高速流体力学层连续冲击，使吸附的微细颗粒解吸的清洗技术。
兆声清洗特点
兆声波清洗不会产生强烈的空化效应，可以避免在清洗过程中造成对清洗对象表面的损伤与污染物残留。兆声波清洗效率高、时间短，使用清洗剂浓度低，化学试剂的消耗量少，因此对环境的危害水平较低。
设备特性
● 单点喷淋式兆声清洗，相比传统槽式清洗，可解决清洗液二次污染问题；
● 极低的空化效应，不会对器件表面造成损伤；
● 无金属材质接触液体，无导电物质脱落风险；
● 高防腐性，可耐各种酸碱溶液及有机溶剂；
● 超高清洗精度，可去除物体表面0.2微米的污渍颗粒；
● 全面非金属高防腐材质，适应各种酸碱及有机溶剂；
● 石英或蓝宝石匹配层技术，无杂质脱落到器件上的风险；
● 独特的换能器贴合技术，更高的稳定性和耐久性；
● 创新型半导体技术的兆声发生器，全面实现数字化高频大功率驱动；
应用领域
● CMP化学机械抛光 ● 键合前清洗 ● 掩膜清洗
● 显影 ● 去胶 ● Lift-off金属剥离
● 湿法刻蚀 ● 镜头清洗 ● 显示屏等微电子行业精密清洗
