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单晶圆兆声清洗机
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单晶圆兆声清洗机

YMMS-MSC600作为一款小占地面积的理想设备,适用于研发科研使用,很容易放置在空间有限的洁净间进行清洗处理,也可用于掩膜版清洗,可选择兆声喷淋式喷头、兆声贴合式喷头配合PVA刷洗、化学药剂、DI清洗、DIW清洗、N2甩干、红外干燥等工艺进行自由搭配顺序来简历清洗菜单完成工作流程。

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  • 兆 声 清 洗 系 统

    单晶圆兆声清洗机

    Single wafer megatonic cleaning machine



    单晶圆兆声清洗机

    YMMS-MSC600



             兆声波清洗是利用换能器发出兆赫级高能声波, 溶液分子在这种声波的推动下作加速运动,以强的声压梯度及声流作用产生的高速流体力学层连续冲击,使吸附的微细颗粒解吸的清洗技术。


      兆声清洗特点  

              兆声波清洗不会产生强烈的空化效应,可以避免在清洗过程中造成对清洗对象表面的损伤与污染物残留。兆声波清洗效率高、时间短,使用清洗剂浓度低,化学试剂的消耗量少,因此对环境的危害水平较低。


       设备特性  


    ◆ 仪器型兆声清洗设备

    ◆ 石英喷头:兆声喷头角度可调整(可选配多种流量型号)

    ◆ 兆声清洗设备,采用兆声清洗喷头技术,可提供纳米级湿法清洗

    ◆ “干进干出” 一步工艺以最低的投资和购置成本来实现

    ◆ 无损兆声清洗,试剂,PVA刷洗

    ◆ N2甩干,转速可设置

    ◆ 全彩触摸屏控制及友好的人机交互界面

    ◆ 工艺顺序自由搭配建立清洗菜单,多段速设置

    ◆ 内置顶式FFU净化系统

    ◆ 进口高精密流量控制阀门数值拟定

    ◆ 独立液体排放单元可以和厂务接口对接

    ◆ 多种工艺配方储存

    ◆ 漏液检测报警装置

    ◆ 应急DI固定臂

    ◆ 设备骨架不锈钢外包NPP材质


                                  





    兆 声 清 洗 系 统

    单晶圆兆声清洗机

    Single wafer megatonic cleaning machine



    单晶圆兆声清洗机

    YMMS-MSC600



             兆声波清洗是利用换能器发出兆赫级高能声波, 溶液分子在这种声波的推动下作加速运动,以强的声压梯度及声流作用产生的高速流体力学层连续冲击,使吸附的微细颗粒解吸的清洗技术。


      兆声清洗特点  

              兆声波清洗不会产生强烈的空化效应,可以避免在清洗过程中造成对清洗对象表面的损伤与污染物残留。兆声波清洗效率高、时间短,使用清洗剂浓度低,化学试剂的消耗量少,因此对环境的危害水平较低。


       设备特性  


    ◆ 仪器型兆声清洗设备

    ◆ 石英喷头:兆声喷头角度可调整(可选配多种流量型号)

    ◆ 兆声清洗设备,采用兆声清洗喷头技术,可提供纳米级湿法清洗

    ◆ “干进干出” 一步工艺以最低的投资和购置成本来实现

    ◆ 无损兆声清洗,试剂,PVA刷洗

    ◆ N2甩干,转速可设置

    ◆ 全彩触摸屏控制及友好的人机交互界面

    ◆ 工艺顺序自由搭配建立清洗菜单,多段速设置

    ◆ 内置顶式FFU净化系统

    ◆ 进口高精密流量控制阀门数值拟定

    ◆ 独立液体排放单元可以和厂务接口对接

    ◆ 多种工艺配方储存

    ◆ 漏液检测报警装置

    ◆ 应急DI固定臂

    ◆ 设备骨架不锈钢外包NPP材质


                                  

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