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量子点光学膜原位制备技术

浏览: 作者: 来源: 时间:2022-11-29 分类:超声波喷涂

量子点光学膜原位制备技术——薄膜喷涂——上海央米超声波喷涂

与常规的薄膜体系相比,量子点薄膜具有独特的物理化学特性,如可调控的带隙及带边位置、由表面化学修饰实现的表面功能化、由多重激子效应引起的高量子效率等。简便灵活的制备工艺及优异的物理化学性质使量子点薄膜在光伏器件领域具有极高的研究价值和极大的应用潜力。

制备工艺:

       钙钛矿量子点光学膜的制备工艺主要分为三个阶段:第一阶段是配制包含有PVDF基质、钙钛矿材料和有机溶剂的前驱体成膜溶液,并涂覆到相应基底上;第二阶段是将涂覆好的湿膜置于真空干燥箱中,随着有机溶剂的快速挥发,PVDF基质结晶定型,呈无色透明状薄膜;第三阶段是随着残余有机溶剂的进一步挥发,钙钛矿组分达到临界形核浓度,形核与生长很快完成,薄膜逐渐转变为绿色透明状。

原位制备策略工艺流程图

                                                                                               原位制备策略工艺流程图


应用效果:

       在材料制备的基础上展示了钙钛矿量子点光学膜背光显示中的应用。首先采用了On-chip的方式把钙钛矿量子点光学膜集成在贴片型LED中,得到的白光LED光源色坐标(0.272,0.278),色域121%NTSC,发光效率109 lm/W,综合指标为已报道的量子点LED器件最优值,这说明钙钛矿量子点光学膜在背光中的应用优势。随后采用On-surface的方式把钙钛矿量子点光学膜直接集成到LCD的背光模组中,充分展现了钙钛矿量子点光学膜在提升显示器件色域方面的巨大潜力,彩色显示效果对比见图如下。

应用展示

                                                                                                                            应用展示


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